台湾"高等检察署"日前针对台积电2纳米制程技术泄密案作出处理,除对三名涉案工程师提起公诉外,更追加起诉日本半导体设备巨头东京电子公司。检方依据"安全法"、"营业秘密法"等四项罪名,向东京电子求处1.2亿元新台币罚金。
案件核心涉案人员包括已离职的台积电前工程师陈力铭,以及仍在职的工程师戈一平、吴秉骏。这三名毕业于同一所大学的工程师涉嫌通过远程办公方式窃取台积电2纳米制程机密技术。其中主嫌陈力铭曾在台积电任职8年,参与过5纳米、3纳米等先进制程的研发工作,后跳槽至东京电子台湾子公司担任营销专员。
检方调查显示,陈力铭在东京电子任职期间,为解决工作问题,诱使仍在台积电任职的戈一平和吴秉骏利用内部系统权限,通过手机拍摄计算机屏幕的方式泄露2纳米制程技术机密。台积电于今年7月发现此违法行为后立即向检方报案。
值得注意的是,检方特别指出东京电子台湾子公司"未尽全力落实防止营业秘密外泄的预防措施",存在管理疏失。不过目前尚未发现该公司实际使用或持有被窃取的台积电专有技术。东京电子方面已解雇涉案员工,并声明公司内部设有严格的行为准则,将全力配合调查。
此案三名涉案人员面临严厉刑责:主嫌陈力铭被求刑14年,吴秉骏9年,戈一平7年。案件已移送智慧财产及商业法院审理,三人目前被裁定续押禁见3个月。
此次泄密事件促使台积电进一步加强知识产权保护力度,包括对跳槽至竞争对手的前高管提起法律诉讼。案件的发展也引发业界对高科技企业人才流动与技术保密的高度关注。